現(xiàn)在半導(dǎo)體行業(yè)是一個(gè)重點(diǎn)發(fā)展的行業(yè)，專門的有大基金投入到集成電路中，而在這一行業(yè)中芯片更是發(fā)展的重點(diǎn)。在看一些經(jīng)濟(jì)政策的時(shí)候都可以看到這些信息。今天我們就來(lái)關(guān)注一下半導(dǎo)體公司之一中微半導(dǎo)體上市了嗎？

　　2019年7月22日，科創(chuàng)板正式開門營(yíng)業(yè)，首批25家企業(yè)上市。在其中和中微半導(dǎo)體的開盤價(jià)在上市第一天就飆升了300％以上，總市值超過(guò)600億元。中微半導(dǎo)體成立于2004年，是一家全球性的微加工高端設(shè)備公司。其主要產(chǎn)品為集成電路， LED芯片、MEMS等半導(dǎo)體產(chǎn)品制造商提供刻蝕設(shè)備、MOCVD（金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積）設(shè)備等設(shè)備。

　　目前世界上最先進(jìn)、能實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)的最小結(jié)構(gòu)是7納米。國(guó)際上只有美國(guó)泛林半導(dǎo)體與應(yīng)用材料、日本東京電子、日立四家公司可以實(shí)現(xiàn)，而國(guó)內(nèi)只有中微半導(dǎo)體一家公司可以實(shí)現(xiàn)這樣的小結(jié)構(gòu)。招股說(shuō)明書顯示，2016年至2018年，中微半導(dǎo)體分別實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入6.1億元、9.72億元和16.39億元；歸屬于母公司所有者的凈利潤(rùn)分別為-2.39億元、3000萬(wàn)元和9000萬(wàn)元。因此中微半導(dǎo)體上市了嗎是肯定的，上市時(shí)間是2019年7月22日，科創(chuàng)板上市第一批個(gè)股。

　　中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限公司（“中微公司”簡(jiǎn)稱證券，證券代碼“688012”）總部位于上海，專注于亞洲，為全球客戶提供技術(shù)和設(shè)備解決方案。

　　目前公司的等離子刻蝕設(shè)備已廣泛應(yīng)用于國(guó)際一線客戶從65納米到14納米、7納米到5納米的集成電路加工制造和高級(jí)包裝。本公司的金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積設(shè)備已在行業(yè)領(lǐng)先和線上，投入大規(guī)模生產(chǎn)，成為世界領(lǐng)先的氮化鎵基發(fā)光二極管金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積設(shè)備，在中國(guó)處于領(lǐng)先地位。MOCVD設(shè)備市場(chǎng)有廣闊的增長(zhǎng)空間，包括紅黃LED、紫外LED、功率器件、Mini  LED、Micro  LED等，正在推動(dòng)顯示技術(shù)革命。

　　不得不提到中微半導(dǎo)體公司的創(chuàng)始人、董事長(zhǎng)兼總經(jīng)理尹志堯博士。招股書顯示，尹志堯博士在半導(dǎo)體芯片和設(shè)備行業(yè)擁有35年的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，是國(guó)際等離子體刻蝕技術(shù)發(fā)展和產(chǎn)業(yè)化的重要推動(dòng)者，是89項(xiàng)美國(guó)專利和200多項(xiàng)國(guó)內(nèi)外其他專利的主要發(fā)明人。

　　在創(chuàng)建中微半導(dǎo)體之前，尹志堯博士曾在英特爾從事核心技術(shù)開發(fā)，之后在林凡半導(dǎo)體領(lǐng)導(dǎo)刻蝕的幾個(gè)關(guān)鍵產(chǎn)品的技術(shù)開發(fā)。1991年至2004年，他在應(yīng)用材料領(lǐng)域擔(dān)任高級(jí)管理職務(wù)，包括企業(yè)副總裁、刻蝕產(chǎn)品事業(yè)部總經(jīng)理和亞洲總部首席技術(shù)官。

　　中微半導(dǎo)體的其他聯(lián)合創(chuàng)始人、核心技術(shù)人員和重要的技術(shù)工程人員，包括杜志游博士、倪圖強(qiáng)博士、麥?zhǔn)肆x博士、楊偉先生和李天笑，先生，他們中的許多人都是資深的技術(shù)和管理專家，在國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)辛勤工作了幾十年，為行業(yè)做出了卓越的貢獻(xiàn)。

　　在刻蝕設(shè)備方面，自2004年成立以來(lái)，中微半導(dǎo)體首先開發(fā)了甚高頻去耦等離子體刻蝕設(shè)備Primo  D-RIE。到目前為止，我們已經(jīng)成功開發(fā)了三代刻蝕設(shè)備：雙反應(yīng)臺(tái)primo  AD-RIE、雙反應(yīng)臺(tái)Primo AD-RIE和單反應(yīng)臺(tái)Primo SSC AD-RIE。它涵蓋了65納米、45納米、32納米、28納米、22納米、14納米、7納米和5納米顯微器件的許多刻蝕應(yīng)用。

　　2012年中微半導(dǎo)體開發(fā)了感應(yīng)等離子體刻蝕設(shè)備。迄今為止已成功開發(fā)出單反應(yīng)臺(tái)普瑞莫納米VA 刻蝕設(shè)備。目前，客戶生產(chǎn)線已批準(zhǔn)20個(gè)反應(yīng)室；同時(shí)，我們開發(fā)了雙反應(yīng)臺(tái)電感等離子體體刻蝕設(shè)備，主要覆蓋刻蝕， 14納米以下微器件的應(yīng)用，還開發(fā)了電感等離子體深硅刻蝕設(shè)備，應(yīng)用于集成電路的先進(jìn)封裝和微機(jī)電系統(tǒng)傳感器行業(yè)。

　　目前刻蝕設(shè)備已經(jīng)與65納米至7納米加工的刻蝕應(yīng)用實(shí)現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化，正在對(duì)7納米和5納米的部分刻蝕應(yīng)用進(jìn)行客戶驗(yàn)證，具有良好的產(chǎn)業(yè)整合性。據(jù)了解中微半導(dǎo)體是刻蝕五大設(shè)備供應(yīng)商之一，已在全球最先進(jìn)的晶圓制造7納米生產(chǎn)線上得到驗(yàn)證和銷售，其產(chǎn)品技術(shù)已經(jīng)處于世界領(lǐng)先地位。

　　在金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積設(shè)備方面，中微半導(dǎo)體于2010年開始開發(fā)發(fā)光二極管器件加工中最關(guān)鍵的設(shè)備——金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積設(shè)備。目前，中微半導(dǎo)體已經(jīng)開發(fā)了三代MOCVD設(shè)備，第一代設(shè)備Prismo  D-Blue，第二代設(shè)備Prismo  A7和第三代30英寸大尺寸設(shè)備正在開發(fā)中。

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